表面窒化処理用変調誘導熱プラズマ下流におけるガス組成分析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11025

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/05/28

タイトル(英語): Gas Composition measurement at downstream of Pulse Modulated Induction Thermal Plasma for High-speed Nitridation.

著者名: 藤本 健太(金沢大学大学院),春多 洋佑(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Fujimoto Kenta(Kanazawa University Graduate School),Haruta Yosuke(Kanazawa University),Tanaka Yasunori(Kanazawa University),Uesugi Yoshihiko(Kanazawa University)

要約(日本語): パルス変調誘導熱プラズマ下流部におけるガス組成分析実験を質量分析器を用いておこなった。反応性ガス導入位置はトーチ上流部および下流部とし、チャンバー径方向に対して分析用キャピラリーを移動させて測定をおこなった。結果として、トーチ下流部から反応性ガスを導入した場合に、コイル電流変調を加えるとチャンバー径方向中心付近のN系イオン電流が約3.5倍増加することがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 5,283 Kバイト