高密度・高電離度金属プラズマの発生に関する研究
高密度・高電離度金属プラズマの発生に関する研究
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: PST11045
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会
発行日: 2011/08/07
タイトル(英語): Study on the generation of metal plasmas with high density and high degree of ionization
著者名: 池畑 隆(茨城大学)
著者名(英語): Ikehata Takashi(Ibaraki University)
キーワード: プラズマ|金属元素|プラズマ発生|スパッタリング|大電力パルス放電|電離度|plasma|metal element|plasma generation|sputtering|high-power pulsed discharge|degree of ionization
要約(日本語): 大電力パルススパッタなどの手法を用いた高密度・高電離度金属プラズマ発生について、研究の動向、講演者を含む国内の研究例について紹介する。関連するテーマで電気学会調査専門委員会が活動しているので、その概要についても若干紹介する。
要約(英語): Research activities in Japan on the generation of metallic plasmas with high density and high degree of ionization are reviewed. They include high-power pulsed sputtering that attracts much attention recently and metal-vapor vacuum arc used for plating. This presentation is a part of activity in the investigating R&D committee of IEEJ.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 542 Kバイト
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