商品情報にスキップ
1 1

高密度・高電離度金属プラズマの発生に関する研究

高密度・高電離度金属プラズマの発生に関する研究

通常価格 ¥330 JPY
通常価格 セール価格 ¥330 JPY
セール 売り切れ
税込

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11045

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/08/07

タイトル(英語): Study on the generation of metal plasmas with high density and high degree of ionization

著者名: 池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Ikehata Takashi(Ibaraki University)

キーワード: プラズマ|金属元素|プラズマ発生|スパッタリング|大電力パルス放電|電離度|plasma|metal element|plasma generation|sputtering|high-power pulsed discharge|degree of ionization

要約(日本語): 大電力パルススパッタなどの手法を用いた高密度・高電離度金属プラズマ発生について、研究の動向、講演者を含む国内の研究例について紹介する。関連するテーマで電気学会調査専門委員会が活動しているので、その概要についても若干紹介する。

要約(英語): Research activities in Japan on the generation of metallic plasmas with high density and high degree of ionization are reviewed. They include high-power pulsed sputtering that attracts much attention recently and metal-vapor vacuum arc used for plating. This presentation is a part of activity in the investigating R&D committee of IEEJ.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 542 Kバイト

販売タイプ
書籍サイズ
ページ数
詳細を表示する