大電力パルスマグネトロンスパッタリングにおける磁界分布の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11049

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/08/08

タイトル(英語): Influence of magnetic field distribution in high-power pulse magnetron sputtering plasma

著者名: 奥原 大地(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学),赤松 浩(神戸市立工業高等専門学校),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Okuhara Daichi(university of Hyogo),Azuma Kingo(university of Hyogo),Akamatsu Hiroshi(Kobe City College of Technology),Ikahata takashi(Ibaraki University)

キーワード: マグネトロンスパッタ|アンバランスドマグネトロン|グロー放電|スパッタ|Magnetron Sputtering|Un-Balanced Magnetron|Glow discharge|Sputter

要約(日本語): ハイパワーパルスマグネトロンスパッタリングは高いイオン化率をもった金属プラズマを生成できる。一方ＤＣマグネトロン放電でもターゲット表面の磁界をバランスを変えるとプラズマの密度が向上することが知られている。今回は磁界の分布がパスススパッタリングにどのような影響を与えるか実験的に検討した結果について報告する。

要約(英語): High-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) discharge is hardly arcing and can be produced high density metal plasma. We fabricated HPPMS plasma source and examined. Un-Balanced Magnetron(UBM) is magnetron which the magnetic field does not closed, changed the magnetic field and measured characteristics. The result which holder current increases was obtained, so that zero point was closed to the target.

原稿種別: 日本語

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