内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11070

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/08/09

タイトル(英語): Electrical characteristics of confronted targets type high power pulse sputtering discharge with inside electrode

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),奥原 大地(兵庫県立大学),行村 建(産業技術総合研究所),中野 禅(産業技術総合研究所),小木曽 久人(産業技術総合研究所)

著者名(英語): Kingo AZUMA(University of Hyogo),Daichi Okuhara(University of Hyogo),Ken Yukimura(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Shizuka Nakano(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Hisato Ogiso(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: パルス放電プラズマ|グロー放電|ペニング放電|スパッタ|プラズマイオンプロセス|Pulsed discharge plasma|Glow discharge|Penning discharge|Sputter|Plasma ion process

要約(日本語): 対向電極型大電力パルススパッタ放電はイオン化率の高い金属プラズマが生成される。プラズマ源の内部には磁気回路を形成するための空間があり金属プラズマの何割からはその空間に流入する。このためこの空間にプラズマが入り込まないようにすればプラズマ源から放出される金属プラズマが増加すると考えられる。今回この内部空間に電極を挿入し、プラズマの電気的特性を調べた。その結果について報告する。

要約(英語): High power pulse sputtering plasma is produced among a pair of sputtering targets which confront each other.　The distance between targets is 10 mm. There are permanent magnets in the back of a sputtering target. Magnetic flux crosses the surface of a target perpendicularly. The permanent magnets are connected by a U-shaped magnetic circuit. So, the center of a magnetic circuit is a void of 20 mm×30 mm×60 mm. A metal rod of 15 mm in diameter and 60 mm in length was inserted in this place. The rode was electrically-grounded. Pulse voltage was applied to the target under the argon gas atmosphere of pressure 2 Pa. Pulse voltage was applied voltage of 800 V, pulse width of 30 s, and repetition frequency of 500 Hz. The current observed with the collector electrode which is separated 50 mm from the sputter targets was about 12% of target driven current.

原稿種別: 日本語

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