大電力パルスアンバランスドマグネトロンスパッタリングにおける磁界分布依存性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11088

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/12/15

タイトル(英語): Magnetic field distribution dependence of high-power pulse un-balanced magnetron sputtering

著者名: 奥原 大地(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学),赤松 浩(神戸市立工業高等専門学校),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Daichi Okuhara(University of Hyogo),Kingo Azuma(University of Hyogo),Hiroshi Akamatsu(Kobe City College of Technology),Takashi Ikehata(Ibaraki University)

キーワード: マグネトロンスパッタ|アンバランスドマグネトロン|グロー放電|スパッタ|ＨＰＰＳ|ＨｉＰＩＭＳ|Magnetron Sputtering|Un-Balanced Magnetron|Glow discharge|Sputter|HPPS|HiPIMS

要約(日本語): ハイパワーパルスマグネトロンスパッタ (HiPIMS)による放電はアーキングが起こりにくく、高密度の金属プラズマを得ることができる。マグネトロンスパッタにおいてもパルス放電ではＤＣ放電に比べて放電電流が数倍になる。アンバランスドマグネトロンプラズマ源を作成し、特性を調べた。今回はマグネトロンの磁界分布が放電電流に及ぼす影響について報告する。

要約(英語): High-power pulsed magnetron sputtering (HiPIMS) discharge is hardly arcing and can produce high density metal plasma. We changed the magnetic field and measured characteristics. The result which holder current increases was obtained, so that zero point was closed to the target.

原稿種別: 日本語

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