大気圧マイクロ波プラズマジェットによるナノクリスタルダイヤモンド薄膜合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST11119

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2011/12/17

タイトル(英語): Atmospheric-pressure synthesis of nanocrystalline diamond films using a microwave-excited plasma jet

著者名: 金 載浩(産業技術総合研究所),キム ドンミン(東京大学),桂井 誠(放送大学 ),大崎 博之(東京大学)

著者名(英語): Kim Jaeho(AIST),Kim Dongmin(University of Tokyo),Katsurai Makoto(Open University of Japan),Ohsaki Hiroyuki(University of Tokyo)

キーワード: 大気圧プラズマジェット|マイクロ波プラズマ|マイクロストリップ線路|大気圧ＣＶＤ|ナノクリスタルダイヤモンド薄膜|atmospheric pressure plasma jet|microwave plasma|microstrip line|atmospheric pressure CVD|nanocrystalline diamond film

要約(日本語): 最近、ナノクリスタルダイヤモンド(NCD)薄膜は新しいカーボンナノ物質として注目されている。一般的にNCD薄膜は低圧力(数十Torr)プラズマCVDにより600 ℃以上の基板温度で合成される。本研究では、独自に開発した大気圧マイクロ波励起プラズマジェットを用いて、大気圧開放雰囲気でナノクリスタルダイヤモンド薄膜を低温合成（430 ℃以下）する技術を開発した。講演では、大気圧プラズマCVD、および合成された薄膜の特性について報告する。

原稿種別: 日本語

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