直流アークプラズマを用いた Ga 添加 ZnO 透明導電膜：機能とその持続性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST13005

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2013/03/15

タイトル(英語): Characteristics of highly transparent conductive Ga-doped ZnO films deposited by dc arc discharge: how to achieve sustainable ultimate functional materials

著者名: 山本 哲也(高知工科大学),宋 華平(高知工科大学),牧野 久雄(高知工科大学),岸本 誠一(高知工科大学)

著者名(英語): YAMAMOTO Tetsuya(Kochi University of Technology),SONG Huaping(Kochi University of Technology),MAKINO Hisao(Kochi University of Technology),KISHIMOTO Seiichi(Kochi University of Technology)

キーワード: 酸化亜鉛|ガリウム|直流アーク放電|粒界|耐湿熱性|散乱機構|ZnO|Ga|dc arc discharge|grain boundary|moisture resistance|scattering mechanism

要約(日本語): 酸化亜鉛透明導電膜の材料特性における特徴として、高可視光領域透過率、低抵抗率、低結晶化温度に由来する低温成長可能、などが挙げられる。本講演では、改めて上記特徴とそれを機能材料としていかに活かすかについて議論する。直流アーク放電になぜ、注目したか、そしてそれによってキャリア輸送機構がいかに解明されてきたか、機能に対する対候性などの現状とその課題および解決策などについて理論と実験との両面から詳説する。

要約(英語): Polycrystalline highly transparent conductive Ga-doped ZnO (GZO) films were deposited by ion plating with dc arc discharge. We clarified the advantage of the deposition method over the conventional film-deposition methods. The electrical and optical properties of the GZO films were discussed in terms of their sustainability.

原稿種別: 日本語

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