大電力パルス駆動ペニングスパッタ装置における高密度プラズマの生成に関する研究

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST13025

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2013/03/16

タイトル(英語): Generation of high-density plasmas by high-power-pulse sputtering device with penning geometry

著者名: 菊地 貴允(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学),東 欣吾(兵庫県立大学),池畑 隆(茨城大学)

著者名(英語): Kikuchi Takamitsu(Ibaraki University),Sato Naoyuki(Ibaraki University),Azuma Kingo(University of Hyogo),Ikehata Takashi(Ibaraki University)

キーワード: ペニング放電|大電力パルススパッタ|高密度プラズマ|磁場勾配|均一磁場|不均一磁場|Penning discharge|High-power-pulsed sputtering|High-density plasma|Magnetic field gradient|Uniform magnetic field|Non-uniform magnetic field

要約(日本語): ＤＣスパッタや高周波スパッタは、スパッタ粒子の９０％以上が中性原子であるため，膜質の制御が困難である。そこで，スパッタ粒子のイオン化率を増加させる方法として，電場と磁場による電子の閉じ込め効果を利用することで高密度プラズマを形成するペニングスパッタ装置に着目した。本研究では、ペニング装置に大電力パルスを印加した大電力パルススパッタにおけるプラズマの生成とプラズマ諸量の空間分布について調査した。

要約(英語): We are developing the penning device that has an ability of generating high-density plasmas by confining electrons in electric and magnetic fields. In the present paper, we report the generation of sputter plasmas in the penning device driven by a pulsed power source.　The spatial distribution of plasma parameters has been measured with a Langmuir probe.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,178 Kバイト