Nd-Fe-B/Taスパッタ膜の磁気特性評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: PST16079

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 プラズマ研究会

発行日: 2016/10/20

タイトル(英語): Evaluation of magnetic properties of Nd-Fe-B/Ta sputtered films

著者名: 小玉 康太(長崎大学),日巻 智裕(長崎大学),篠原 正典(長崎大学),松田 良信(長崎大学)

著者名(英語): Kouta Kodama(Nagasaki univ.),Tomohiro Himaki(Nagasaki univ.),Masanori Shinohara(Nagasaki univ.),Yoshinobu Matsuda(Nagasaki univ.)

キーワード: 磁性薄膜|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ|ＲＦマグネトロンスパッタリング|成膜|二層膜|熱減磁|magnetic thin film|Nd-Fe-B|RF magnetron sputtering |deposition|bilayer film|thermal demagnetization

要約(日本語): RFマグネトロンスパッタリングでTa基板上にNd-Fe-B膜を形成した後、DCスパッタリングでTa保護膜を形成し、その2層膜の磁気特性を調査した。Nd-Fe-Bが膜厚600nmで、Ta膜厚が20または40nmのときに、80kJ/m^3を超える(BH)maxと960kA/m程度の保磁力を有する硬磁気特性が得られた。

要約(英語): We have prepared a Ta film by DC sputtering after forming the Nd-Fe-B film by RF magnetron sputtering on the Ta substrate, and investigated its magnetic properties of the bilayer thin film.Hard magnetic properties with a (BH)max more than 80kJ/m^3 and coercivity more than 960kA/m were obtained for the films with Nd-Fe-B thickness of 600nm and Ta thickness of 20 or 40nm in Nd-Fe-B film thickness.

原稿種別: 日本語

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