光応用・視覚技術の最前線

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2012/01/01

タイトル(英語): Leading-Edge Technology in Light Application and Visual Science

著者名: 綱脇　惠章（大阪産業大学工学部電子情報通信工学科），堀内　敏行（東京電機大学工学部機械工学科），廣本　宣久（静岡大学創造科学技術大学院）

著者名(英語): Yoshiaki Tsunawaki (Osaka Sangyo University), Toshiyuki Horiuchi (Tokyo Denki University), Norihisa Hiromoto (Shizuoka University)

キーワード: リソグラフィ，MEMS，厚膜レジスト，テラヘルツ時間領域分光法，ランダム誤差　　lithography，MEMS，thick resist，THz time-domain spectroscopy，random error

要約(英語): The technical committee on light application and visual science (TC-LAV) has been surveying fields of application of optical engineering and visual science, covering medical science, devices for visual information processing, light sources from terahertz wave to extreme ultraviolet, advanced lithography, and so on. This article introduces two topics from recent research activities. They are optical control of thick resist pattern profiles, and characteristics of random errors in intensity and phase measured with THz time-domain spectroscopy.

本誌: 電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌） Vol.132 No.1 （2012） 特集：2012年研究開発の動向と最前線

本誌掲載ページ: 17-20 p

原稿種別: 解説／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/132/1/132_1_17/_article/-char/ja/