電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌） Vol.132 No.4 （2012） 特集：プロセスプラズマの発生と応用

カテゴリ: 論文誌(号単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2012/04/01

タイトル(英語): IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials Vol.132 No.4 (2012) Special Issue on Process Plasmas and their Applications

著者リスト: ・大電力パルススパッタリングプラズマ源：東　欣吾 ・NLDプラズマ中のイオン生成維持および基板へのイオン入射量均一化のための磁界制御：吉田　拓平，櫻井　洋平，菅原　広剛，村山　明宏 ・X線照射によるエポキシ樹脂中の人工ボイド内部分放電特性の検討：東山　雅一，高田　一，林　昌幸，小迫　雅裕，匹田　政幸，中村　修平，梅村　時博，中村　勇介，広瀬　達也 ・PT-FTI法による電子の時間分解エネルギー分布の計算：武田　章秀，生田　信皓 ・O2およびAr雰囲気での水上パルス放電におけるフェノール分解過程：塩田　晴基，板橋　秀幸，佐藤　孝紀，伊藤　秀範 ・MOSトランジスタのパルス駆動における電流分担の改善に関する研究：高木　元，折原　正人，山田　務，柳平　丈志 ・1μs方形波電圧によるN2/He大気圧非平衡プラズマの生成と診断：白井　博之，中野　俊樹，北嶋　武 ・環境負荷低減室温硬化型シリコーン複合体の機械的特性と耐熱性：長　広明，芦田　恭典，中村　修平，清水　航，村上　泰 ・水トリー短時間再現試験手法に用いる新水電極法の提案と水トリー発生・進展に及ぼす温度効果に関する検討：植原　弘明，工藤　勝利，石川　芳博，金川　晃夫，坪井　雄一，牛渡　広大，吉満　哲夫 ・沿面放電プラズマを用いたSiエッチングの電源周波数依存性：有村　拓也，平野　啓太，濱田　俊之，迫田　達也

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/browse/ieejfms/132/4/_contents/-char/ja/