フラッシングスプレーCVD法を用いたHfO2薄膜の作成（続報）

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2012/07/01

タイトル(英語): Preparation of HfO2 Thin Films using Flashing Spray CVD Method

著者名: 大嶋　元啓（福井工業大学），千田　二郎（同志社大学），富永　浩二（堀場製作所），清水　哲夫（堀場エステック），石田　耕三（堀場製作所）

著者名(英語): Motohiro Oshima (Fukui University of Technology), Jiro Senda (Doshisha University), Koji Tominaga (HORIBA, Ltd.), Tetsuo Shimizu (HORIBA STEC, Co., Ltd.), Kozo Ishida (HORIBA, Ltd.)

キーワード: 減圧沸騰噴霧，インジェクタ，二相領域，化学気相成長，酸化ハフニウム　　flash boiling spray，injector，two phase region，chemical vapor deposition，hafnium oxide

要約(英語): The authors proposed a novel chemical vapor deposition system, a new evaporation supply method by using flash boiling spray, to improve several kinds of problems such as the decomposition of the precursor at supply line and evaporator. In this paper, the relation between film surface condition and injection quantity was investigated. Tetraethyl methyl amino hafnium and n-pentane were used as the mixed solution, and HfO2 film was deposited on Si substrate by using this method. As a result, the film surface roughness and grain size are increased as increasing injection quantity.

本誌: 電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌） Vol.132 No.7 （2012） 特集：The 16th International Workshop on Spherical Tori 2011

本誌掲載ページ: 601-602 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/132/7/132_601/_article/-char/ja/