電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌） Vol.133 No.10 （2013） 特集：リソグラフィとその関連技術・応用技術

カテゴリ: 論文誌(号単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2013/10/01

タイトル(英語): IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials Vol.133 No.10 (2013) Special Issue on Lithography and Related Technology including Applications

著者リスト: ・EUVレジストにおけるAcid-Sensitive Dyesを用いたPAGからの酸の発生挙動の解析：関口　淳 ・光ナノインプリントにおけるモールド全域での充填観察：廣島　洋，王　清 ・コヒーレントEUV光源を用いたEUVLマスクの欠陥検出：永田　豊，原田　哲男，渡邊　健夫，緑川　克美，木下　博雄 ・リソグラフィによるステンレスマイクロコイルと網目管の製作：坂部　展士，堀内　敏行 ・6.x nm領域における希土類プラズマ極端紫外光源：大塚　崇光，東口　武史，湯上　登 ・半導体プロセスへの自己組織化リソグラフィ応用：清野　由里子，加藤　寛和，米満　広樹，佐藤　寛暢，菅野　正洋，小林　克稔，川西　絢子，東　司 ・遠方界ばく露の妊婦と子供に対する人体数値モデルにおける全身平均SARとボクセルSARの定量関係：浅山　遼太，王　建青，藤原　修 ・ボウ・タイ状水トリーの発生核依存性に関する実験的考察：熊澤　孝夫，森永　清司

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/browse/ieejfms/133/10/_contents/-char/ja/