エーテルを原料に用いた親水性アモルファス炭素膜の堆積と堆積反応の赤外分光解析
エーテルを原料に用いた親水性アモルファス炭素膜の堆積と堆積反応の赤外分光解析
カテゴリ: 論文誌(論文単位)
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門
発行日: 2018/11/01
タイトル(英語): Deposition of Hydrophilic Amorphous Carbon Film with Ether as a Source Molecule and Analysis of its Deposition Reaction
著者名: 篠原 正典(佐世保工業高等専門学校),冨永 泰佑(佐世保工業高等専門学校),下村 勇登(佐世保工業高等専門学校),猪原 武士(佐世保工業高等専門学校),柳生 義人(佐世保工業高等専門学校),大島 多美子(佐世保工業高等専門学校),川崎 仁晴(佐世保工業高等専門学校)
著者名(英語): Masanori Shinohara (National Institute of Technology, Sasebo College), Taisuke Tominaga (National Institute of Technology, Sasebo College), Hayato Shimomura (National Institute of Technology, Sasebo College), Takeshi Ihara (National Institute of Technolog
キーワード: 親水性,アモルファス炭素膜,エーテル,結合状態,C=O hydrophilicity,amorphous carbon,ether,bonding states,carboxyl
要約(英語): A hydrophilic amorphous carbon film was deposited with plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) using diisopropylether ((i-C3H7)2O) as a source molecule. Bonding states of hydrocarbon in the deposited film are comprised of sp3-hydrocarbon components, which is the same as the isopropy group in the source molecule. On the other hand, C=O bonding is formed in the deposited film, not as similar to the source molecule, diisopropylether. These results suggest that C-O-C in the source molecule would be cleaved. This study would propose a new deposition method of a hydrophilic amorphous carbon film with ether as a source molecule.
本誌: 電気学会論文誌A(基礎・材料・共通部門誌) Vol.138 No.11 (2018) 特集:各種プラズマ計測法の進展とその応用
本誌掲載ページ: 538-543 p
原稿種別: 論文/日本語
電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/138/11/138_538/_article/-char/ja/
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