基材包囲型マグネトロンスパッタリング装置のHiPIMSおよびDCMS駆動の比較

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2022/03/01

タイトル(英語): Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive

著者名: 末松　孝太（岐阜大学大学院自然科学技術研究科），上坂　裕之（岐阜大学工学部機械工学科），古木　辰也（岐阜大学工学部機械工学科），清水　徹英（東京都立大学大学院システムデザイン研究科），太田　貴之（名城大学理工学部電気電子工学科），小田　昭紀（千葉工業大学工学部電気電子工学科）

著者名(英語): Kota Suematsu (Graduate School of Natural Science and Technology, Gifu University), Hiroyuki Kousaka (Faculty of Engineering, Gifu University), Tatsuya Furuki (Faculty of Engineering, Gifu University), Tetsuhide Shimizu (Graduate School of Systems Design, Tokyo Metropolitan University), Takayuki Ohta (Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Science and Technology, Meijo University), Akinori Oda (Department of Electrical and Electronic Engineering, Chiba Institute of Technology)

キーワード: ハードコーティング，一個流し成膜，物理蒸着，基材包囲型マグネトロンスパッタリング装置，高電力インパルス，窒化チタン　　hard coating，one-piece coating，PVD，substrate surrounding type magnetron sputtering，HiPIMS，TiN

要約(英語): For the hard coating field, we have developed a new physical vapor deposition (PVD) technology for one-piece coating of rod parts, a magnetron sputtering device in which a cylindrical target surrounds the substrate. TiN films formed under HiPIMS and DCMS drive of the device using cylindrical Ti target were compared. It was shown that a high-hardness and dense TiN film, which is characteristic of the HiPIMS method, can be formed using the prototype substrate surrounding type magnetron sputtering device.

本誌: 電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌） Vol.142 No.3 （2022） 特集：放電・プラズマ・パルスパワー研究の最新動向

本誌掲載ページ: 101-107 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/142/3/142_101/_article/-char/ja/