CVD作製したLiTaO3薄膜の特性

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門

発行日: 2011/06/01

タイトル(英語): Characteristic of LiTaO3 Film Growth by Chemical Vapor Deposition

著者名: 門田　道雄（（株）村田製作所），栃下　光（（株）村田製作所）

著者名(英語): Michio Kadota (Murata Mfg. Co., Ltd.), Hikari Tochishita (Murata Mfg. Co., Ltd.)

キーワード: LiTaO3膜，CVD　　LiTaO3 film，CVD

要約(英語): LiTaO3 is a key material for surface acoustic wave (SAW) devices, bulk devises, piezoelectric elements, pyroelectric sensors and other applications. However, for almost of their applications the LiTaO3 single crystal is used. In this paper, authors report the growth of LiTaO3 films on a metal electrode layer by Chemical Vapor Deposition (CVD) by changing Li source condition. The characteristics of the LiTaO3 films observed by the X-ray diffraction (XRD) and their polarity dependent on the Li source supply volume. By controlling the Li/Ta ratio, high quality ferroelectric LiTaO3 films are deposited.

本誌: 電気学会論文誌C（電子・情報・システム部門誌） Vol.131 No.6 （2011） 特集：圧電材料・デバイス

本誌掲載ページ: 1188-1189 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/131/6/131_6_1188/_article/-char/ja/