SOBINMFによる眼電自動除去システム

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門

発行日: 2015/08/01

タイトル(英語): SOBINMF for Automatic Removal of Ocular Artifacts from the EEG

著者名: 椿田　紘久（早稲田大学大学院先進理工学研究科電気・情報生命専攻），小野　弓絵（明治大学理工学部電気電子生命学科），石山　敦士（早稲田大学大学院先進理工学研究科電気・情報生命専攻）

著者名(英語): Hirohisa Tsubakida (Graduate School of Advanced Science and Engineering, Waseda University), Yumie Ono (School of Science and Technology, Meiji University), Atsushi Ishiyama (Graduate School of Advanced Science and Engineering, Waseda University)

キーワード: 脳波，眼電ノイズ，SOBI，非負行列因子分解　　electroencephalogram，electro-oculogram artifact，second order blind identification，nonnegative matrix factorization

要約(英語): This paper introduces a novel method to automatically remove electro-oculogram (EOG) from electroencephalogram (EEG) using second-order blind identification (SOBI) and nonnegative matrix factorization (NMF). To demonstrate the effectiveness of the proposed method, we applied SOBI, NMF, or combined SOBI and NMF (SOBINMF) to the EEG data during motor imagery task in which participants imagined moving their left or right hand. Ocular artifacts were removed more effectively in our proposed SOBINMF method compared to SOBI or NMF alone.

本誌: 電気学会論文誌C（電子・情報・システム部門誌） Vol.135 No.8 （2015） 特集：知能メカトロニクス分野と連携する知覚情報技術

本誌掲載ページ: 954-962 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/135/8/135_954/_article/-char/ja/