Pr:LuAG薄膜ターゲットを用いた電子線励起紫外光源の開発
Pr:LuAG薄膜ターゲットを用いた電子線励起紫外光源の開発
カテゴリ: 論文誌(論文単位)
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門
発行日: 2015/09/01
タイトル(英語): Development of a UV Light Source using Pr:LuAG Thin Film Target Pumped by Electron Beam
著者名: 市川 典男(浜松ホトニクス 中央研究所),池田 光平(浜松ホトニクス 中央研究所),本多 慶範(浜松ホトニクス 中央研究所),武富 浩幸(浜松ホトニクス 中央研究所),河合 浩司(浜松ホトニクス 中央研究所),鈴木 孝(浜松ホトニクス 中央研究所)
著者名(英語): Norio Ichikawa (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.), Kohei Ikeda (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.), Yoshinori Honda (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.), Hiroyuki Taketomi (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.), Koji Kawai (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.), Takashi Suzuki (HAMAMATSU PHOTONICS K.K.)
キーワード: Pr:LuAG,薄膜,パルスレーザ蒸着法,紫外光源,カソードルミネッセンス Pr:LuAG,thin film,PLD,UV light source,cathode luminescence
要約(英語): Pr:LuAG thin film was deposited by PLD. Before and after thermal treatment, each film was characterized using XRD, SEM and Cathode Luminescence. Thermal treatment led this film to crystallization of Pr:LuAG with garnet structure. And UV emission was obtained from the Pr:LuAG film pumped by irradiating electron beam. We applied this technique to produce a product of a UV light source using Pr:LuAG thin film target pumped by electron beam.
本誌: 電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌) Vol.135 No.9 (2015) 特集:サステナブル社会・先端応用へ向けたレーザプロセシング技術
本誌掲載ページ: 1049-1054 p
原稿種別: 論文/日本語
電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/135/9/135_1049/_article/-char/ja/
受取状況を読み込めませんでした
