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超短パルスレーザー干渉加工法における第二高調波の応用

超短パルスレーザー干渉加工法における第二高調波の応用

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カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門

発行日: 2015/09/01

タイトル(英語): Recent Progress of Interfering Ultra-fast Laser Processing Technique

著者名: 中田 芳樹(大阪大学レーザーエネルギー学研究センター),松葉 良生(大阪大学レーザーエネルギー学研究センター),宮永 憲明(大阪大学レーザーエネルギー学研究センター)

著者名(英語): Yoshiki Nakata (Institute of Laser Engineering, Osaka university), Yoshiki Matsuba (Institute of Laser Engineering, Osaka university), Noriaki Miyanaga (Institute of Laser Engineering, Osaka university)

キーワード: 紫外超短パルスレーザー,干渉パターン,レーザー加工,金属薄膜,プラズモニクス,メタマテリアル  Ultrafast ultraviolet laser,interference pattern,laser processing,metallic thin film,plasmonics,metamaterial

要約(英語): Interference pattern of two different wavelengths, forming a four-sided pyramid consisting of eight beams, is discussed. By using two wavelengths with relation of λ1=2λ2, interference pattern can be formed in numerical simulation. Phase shift and amplitude variation of interfering beams are useful to obtain a variety of interference patterns. On the other hand, ultra-violet femtosecond laser was applied to interfering femtosecond laser processing. MHA (Metallic-Hole Array) structure was fabricated in 100 nm and 200 nm thick gold thin films successfully by multiple shots. The period was minified to 0.76 µm.

本誌: 電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌) Vol.135 No.9 (2015) 特集:サステナブル社会・先端応用へ向けたレーザプロセシング技術

本誌掲載ページ: 1080-1084 p

原稿種別: 論文/日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/135/9/135_1080/_article/-char/ja/

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