ポリマーゲート絶縁膜を用いた酸化物トランジスタの作製
ポリマーゲート絶縁膜を用いた酸化物トランジスタの作製
カテゴリ: 論文誌(論文単位)
グループ名: 【C】電子・情報・システム部門
発行日: 2019/03/01
タイトル(英語): Oxide Field-Effect Transistor with Polymer-Based Gate Insulator
著者名: 藤原 宏平(東北大学金属材料研究所)
著者名(英語): Kohei Fujiwara (Institute for Materials Research, Tohoku University)
キーワード: 機能性酸化物,電界効果トランジスタ,電界効果,静電キャリア蓄積,ゲート絶縁体 functional oxides,field-effect transistors,field effect,electrostatic carrier accumulation,gate insulator
要約(英語): Development of field-effect transistors (FETs) using functional oxide films is currently an area of active research. To effectively modulate electrical conduction properties, the formation of oxide channel/gate insulator interface is critical. In this technical note, a gate insulator fabrication technique based on a poly(para-xylylene) coating method, some examples of FETs on new oxide materials, and potential applications to flexible oxide FETs are described.
本誌: 電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌) Vol.139 No.3 (2019) 特集:フレキシブルセラミックスコーティング
本誌掲載ページ: 207-210 p
原稿種別: 論文/日本語
電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/139/3/139_207/_article/-char/ja/
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