エキシマレーザを用いた光MOD法によるフレキシブルRuO2膜の開発

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門

発行日: 2019/05/01

タイトル(英語): Development of Flexible RuO2 Film by Excimer Laser Metal Organic Deposition (ELAMOD)

著者名: 鵜澤　裕子（国立研究開発法人 産業技術総合研究所），山口　巖（国立研究開発法人 産業技術総合研究所），鈴木　宗泰（国立研究開発法人 産業技術総合研究所），野本　淳一（国立研究開発法人 産業技術総合研究所），中島　智彦（国立研究開発法人 産業技術総合研究所），土屋　哲男（国立研究開発法人 産業技術総合研究所）

著者名(英語): Yuko Uzawa (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Iwao Yamaguchi (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Muneyasu Suzuki (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Junichi Nomoto (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Tomohiko Nakajima (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Tetsuo Tsuchiya (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology)

キーワード: フレキシブルセラミックス，コーティング，光MOD，抵抗体，ハイブリッド溶液　　flexible ceramics，coating，ELAMOD，resistor，hybrid solution

要約(英語): We have developed RuO2 thin and thick films by photo-induced chemical solution process such as excimer laser-assisted metal organic deposition (ELAMOD) and photo reaction of hybrid solution (PRHS). In the case of using ELAMOD, resistivity of tie films was 5.8×10-4 Ωcm. Also, flexible RuO2 films on Polyimide was obtained by PRHS. In this paper, we describe the formation of RuO2 films and the preparation of flexible RuO2 films for SiC power devices.

本誌: 電気学会論文誌C（電子・情報・システム部門誌） Vol.139 No.5 （2019） 特集Ⅰ：電子・情報・システム技術とものづくり　特集Ⅱ：生体を診る・解く・支える技術

本誌掲載ページ: 640-643 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/139/5/139_640/_article/-char/ja/