仮想計測データによる高精度な半導体フォトリソグラフィ工程制御手法の提案

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【D】産業応用部門

発行日: 2013/04/01

タイトル(英語): A Precise Photolithography Process Control Method using Virtual Metrology

著者名: 津田　英隆（富士通（株）），白井　英大（富士通セミコンダクターITシステムズ（株）），河村　栄一（富士通セミコンダクター（株））

著者名(英語): Hidetaka Tsuda (Fujitsu Limited), Hidehiro Shirai (Fujitsu Semiconductor IT Systems Limited), Eiichi Kawamura (Fujitsu Semiconductor Limited)

キーワード: 半導体，仮想計測，装置データ，計測データ，データマイニング　　semiconductor，virtual metrology，tool data，inspection data，data mining

要約(英語): Virtual metrology, which enables both precise controllability and economic efficiency for semiconductor manufacturing processes, has recently attracted interest. The current virtual metrology model is mainly based on hypothesis verification methods that depend on engineers' skills and updation of the model in accordance with situation changes in tools and processes. We propose a precise photolithography process control method using virtual metrology. In our method, we extract the current virtual metrology model by data mining, thus making updation unnecessary.

本誌: 電気学会論文誌D（産業応用部門誌） Vol.133 No.4 （2013）

本誌掲載ページ: 468-474 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejias/133/4/133_468/_article/-char/ja/