CMOS集積化のためのSiO2被覆ポリシリコン可動構造体を有するマイクロミラー

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2012/07/01

タイトル(英語): Micromirror Based on SiO2-covered Polysilicon Structure for CMOS Integration

著者名: 尾崎　貴志（（株）豊田中央研究所），藤塚　徳夫（（株）豊田中央研究所），島岡　敬一（（株）豊田中央研究所），各務　学（（株）豊田中央研究所），野々村　裕（（株）豊田中央研究所）

著者名(英語): Takashi Ozaki (TOYOTA CENTRAL R&D LABS., INC.), Norio Fujitsuka (TOYOTA CENTRAL R&D LABS., INC.), Keiichi Shimaoka (TOYOTA CENTRAL R&D LABS., INC.), Manabu Kagami (TOYOTA CENTRAL R&D LABS., INC.), Yutaka Nonomura (TOYOTA CENTRAL R&D LABS., INC.)

キーワード: マイクロミラー，CMOS 集積化，ポリシリコン，二フッ化キセノンエッチング，応力変形　　Micromirror，CMOS integration，Polysilicon，XeF2 etching，Stress deformation

要約(英語): We propose a CMOS-compatible and mechanically reliable MEMS fabrication process for integrated micromirror. In this paper, design and evaluations of the micromirror fabricated by the proposed process is described. Residual stress deformation of electrodes and buckling of torsion beams were suppressed by rib structures and appropriate layout of support anchors. Highly stable characteristics of the micromirror were demonstrated by evaluation at temperatures from 30 to 150℃.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.132 No.7 （2012）

本誌掲載ページ: 212-218 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/132/7/132_212/_article/-char/ja/