開放系でのプラズマプロセス実現に向けた雰囲気制御技術開発

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2013/05/01

タイトル(英語): Development of the Local Ambient Gas Control Technology and its Application to Atmospheric Pressure Plasma Processes

著者名: 内藤　皓貴（技術研究組合 BEANS研究所 Macro BEANSセンター），紺野　伸顕（技術研究組合 BEANS研究所 Macro BEANSセンター），徳永　隆志（技術研究組合 BEANS研究所 Macro BEANSセンター），伊藤　寿浩（技術研究組合 BEANS研究所 Macro BEANSセンター／（独）産業技術総合研究所 つくば東事業所）

著者名(英語): Teruki Naito (Macro BEANS Center, BEANS Laboratory), Nobuaki Konno (Macro BEANS Center, BEANS Laboratory), Takashi Tokunaga (Macro BEANS Center, BEANS Laboratory), Toshihiro Itoh (Macro BEANS Center, BEANS Laboratory/AIST Tsukuba East)

キーワード: 局所雰囲気制御，開放系，大気圧，プラズマプロセス　　Local ambient gas control，Open air system，Atmospheric pressure，Plasma process

要約(英語): Local ambient gas control technologies for atmospheric pressure plasma processes using a new curtain gas structure have been developed. The local ambient gas control was studied theoretically and experimentally. Safe and clean process conditions (reactive gas leakage below 0.1 vol.% and air contamination below 10ppm) were achieved in open air. H2 plasma was generated with H2 concentrations above the explosive limit (4.1% in air) successfully. As an application, Cu reduction and SiO2 etching were demonstrated. These results indicate that our local ambient gas control technologies have adequate potential for atmospheric pressure plasma processes.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.133 No.5 （2013） 特集：第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム受賞論文特集

本誌掲載ページ: 164-169 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/133/5/133_164/_article/-char/ja/