MEMSネガレジストの粗視化分子動力学シミュレーション

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2013/08/01

タイトル(英語): Molecular Level Study of Negative Thick-Film Resist in MEMS by Employing a Coarse-Grained Molecular Dynamics Simulation

著者名: 平井　義和（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻），柳生　裕聖（関東学院大学理工学部理工学科），牧野　圭秀（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻），上杉　晃生（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻），菅野　公二（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻），土屋　智由（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻），田畑　修（京都大学工学研究科マイクロエンジニアリング専攻）

著者名(英語): Yoshikazu Hirai (Department of Microengineering, Kyoto University), Hiromasa Yagyu (Department of Science and Engineering, Kanto Gakuin University), Yoshihide Makino (Department of Microengineering, Kyoto University), Akio Uesugi (Department of Microengineering, Kyoto University), Koji Sugano (Department of Microengineering, Kyoto University), Toshiyuki Tsuchiya (Department of Microengineering, Kyoto University), Osamu Tabata (Department of Microengineering, Kyoto University)

キーワード: 粗視化分子動力学，フォトレジスト，分子透過膜，弾性率，分子透過機能　　coarse-grained molecular dynamics，photoresist，molecular permeable membrane，elastic modulus，molecular permeability

要約(英語): This paper reports on a newly developed coarse-grained molecular dynamics simulation for epoxy-based chemically-amplified photoresist dedicated to MEMS. To analyze photoresists material properties, Kremer-Grest model (bead-spring model) with an extended angle bending potential was newly employed. A uniaxial elongation simulation and the molecular diffusion simulation were performed to analyze the dependence of an elastic modulus and a molecular permeability on the cross-linked ratio of a photoresists, since these characteristics are important for a permeable membrane made of photoresist to control biological molecules diffusion in biomedical applications. The simulated dependencies of the elastic modulus and the molecular permeability on the cross-linked ratio of photoresists showed good correspondences with the experimental results. This suggests a photoresists membrane can be used as a molecular permeable membrane with controllable permeability by varying photolithography process parameters.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.133 No.8 （2013） 特集：センサ・マイクロマシン用材料とその創成・評価技術

本誌掲載ページ: 320-329 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/133/8/133_320/_article/-char/ja/