走査SQUID顕微鏡による酸化物超伝導薄膜中の磁束・電流・欠陥の同時評価

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2013/10/01

タイトル(英語): Characterization of Superconducting Thin Films by Scanning SQUID Microscopy

著者名: 有沢　俊一（物質・材料研究機構），尹　炅成（物質・材料研究機構），井口　家成（物質・材料研究機構），羽多野　毅（物質・材料研究機構），遠藤　和弘（金沢工業大学），内山　哲治（宮城教育大学），毛塚　博史（東京工科大学）

著者名(英語): Shunichi Arisawa (National Institute for Materials Science), Kyungsung Yun (National Institute for Materials Science), Ienari Iguchi (National Institute for Materials Science), Takeshi Hatano (National Institute for Materials Science), Kazuhiro Endo (Kanazawa Institute of Technology), Tetsuji Uchiyama (Miyagi University of Education), Hiroshi Kezuka (Tokyo University of Technology)

キーワード: 走査SQUID顕微鏡，超伝導薄膜，遮蔽電流，量子化磁束　　scanning SQUID microscopy，superconducting thin film，shielding current，quantized magnetic flux

要約(英語): A method to characterize superconducting thin films by using scanning SQUID microscopy (SSM) is demonstrated. Magnetic field distribution on a film surface with a square defect was calculated and experimental data is also presented. In this paper, principles to observe at a time quantized magnetic flux, shielding current, and defects by SSM is presented.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.133 No.10 （2013） 特集：エネルギーの創出・活用に関わるセンシング

本誌掲載ページ: 312-313 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/133/10/133_312/_article/-char/ja/