電子線描画パターンを用いたプラズモニック結晶の作製とセンサ応用
電子線描画パターンを用いたプラズモニック結晶の作製とセンサ応用
カテゴリ: 論文誌(論文単位)
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門
発行日: 2013/12/02
タイトル(英語): Fabrication Electron Beam Lithography Pattern-based Plasmonic Crystal for Sensing Application
著者名: 遠藤 達郎(大阪府立大学大学院 工学研究科),滝澤 光(東京工業大学大学院 総合理工学研究科),柳田 保子(東京工業大学大学院 総合理工学研究科),初澤 毅(東京工業大学大学院 総合理工学研究科)
著者名(英語): Tatsuro Endo (Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University), Hikaru Takizawa (Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology), Yasuko Yanagida (Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology), Takeshi Hatsuzawa (Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology)
キーワード: プラズモニクス,電子線描画,局在表面プラズモン共鳴 Plasmonics,Electron beam lithography (EBL),Localized surface plasmon resonance (LSPR)
要約(英語): The electron beam lithography (EBL) pattern-based plasmonic crystal for excitation of localized surface plasmon resonance (LSPR) was fabricated. For evaluation of sensing characteristics, lattice-shaped plasmonic crystal with different pitch was fabricated using EBL. These plasmonic crystals shows the different LSPR optical characteristics (peak shift and absorbance strength change), and the high sensitivity (up to 564.1 nm/refractive index unit (RIU)) could be observed. Based on these characteristics, plasmonic crystal is applicable to high sensitive label-free chemical or bio sensors.
本誌: 電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌) Vol.133 No.12 (2013) 特集:マイクロ・ナノ流体デバイス開発とその応用
本誌掲載ページ: 374-375 p
原稿種別: 研究開発レター/日本語
電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/133/12/133_374/_article/-char/ja/
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