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Siナノ探針の先鋭化と近接デュアルAFMプローブの形成

Siナノ探針の先鋭化と近接デュアルAFMプローブの形成

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カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2016/07/01

タイトル(英語): Si Nano-tip Sharpening and Fabrication of Narrow-gapped Dual AFM Probe

著者名: 三品 和樹(山形大学大学院理工学研究科),三浦 嘉隆(山形大学大学院理工学研究科),川島 健太(凸版印刷(株)),佐藤 翼(山形大学工学部機械システム工学科),峯田 貴(山形大学大学院理工学研究科)

著者名(英語): Kazuki Mishina (Yamagata University Graduate school of Science and Engineering), Yoshitaka Miura (Yamagata University Graduate school of Science and Engineering), Kenta Kawashima (TOPPAN Corporation), Tsubasa Sato (Yamagata University Faculty of Engineering Department of Mechanical Systems Engineering), Takashi Mineta (Yamagata University Graduate school of Science and Engineering)

キーワード: デュアルAFMプローブ,近接ナノ探針,探針先鋭化,低温熱酸化  Dual AFM probe,Narrow-gapped nano tip,Tip sharpening,Low-temperature thermal oxidation

要約(英語): This paper reports on fabrication and characterization of sharp Si nano dual AFM (atomic force microscope) tip. The narrow-gapped dual AFM tip was formed by self-align etching technique based on Si trench reactive ion etching, trench refilling with spin on glass (SOG), SOG etching and polishing back, and Si crystalline anisotropic etching to form triangular pyramid with inclined Si (111) plane and two vertical planes. When corner angle of the Si trench pattern was changed from 90° to acute angles, needle end of the dual tip was geometrically sharpened. In addition, radius of curvature of the dual tip was sharpened by low-temperature thermal oxidation even though gap between the tips slightly widened about 290nm. Moreover, Si dual tip fabrication was demonstrated on a dual AFM cantilever with sputtered FePd film on Silicon on insulator (SOI) wafer.

本誌: 電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌) Vol.136 No.7 (2016) 特集:携帯型ケミカルセンサ・匂いセンサの最前線

本誌掲載ページ: 312-318 p

原稿種別: 論文/日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/136/7/136_312/_article/-char/ja/

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