17×17並列電子源駆動システムの開発

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2016/09/01

タイトル(英語): Development of a 17×17 Parallel Electron Beam Lithography System

著者名: 宮口　裕(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),室山　真徳(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),吉田　慎哉(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),池上　尚克(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),小島　明(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),田中　秀治(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター),江刺　正喜(東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター)

著者名(英語): Hiroshi Miyaguchi (Tohoku University, Micro System Integration Center), Masanori Muroyama (Tohoku University, Micro System Integration Center), Shinya Yoshida (Tohoku University, Micro System Integration Center), Naokatsu Ikegami (Tohoku University, Micro System Integration Center), Akira Kojima (Tohoku University, Micro System Integration Center), Shuji Tanaka (Tohoku University, Micro System Integration Center), Masayoshi Esashi (Tohoku University, Micro System Integration Center)

キーワード: 並列電子線描画,nc-Si,縮小露光,収差補正　　Parallel electron beam lithography,nc-Si,Reduction projection,Aberration correction

要約(英語): The 17×17 parallel electron beam lithography system has been implemented and evaluated to clarify its system problems and to accelerate a 100×100 massive parallel electron beam direct draw system under development. This paper describes its system concept, an electron emitter driver circuit, its control system and an exposure result.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.136 No.9 （2016） 特集：マイクロ・ナノ医療デバイス

本誌掲載ページ: 413-419 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/136/9/136_413/_article/-char/ja/