機能性メタルの熱アシスト型反応性イオンエッチングに対応した自己加熱式ステージの開発

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2017/09/01

タイトル(英語): Development of Self-heated Stage Suitable for Thermal Assist Reactive Ion Etching of the Functional Metals

著者名: 村田　祐貴（新潟大学大学院 自然科学研究科），韓　剛（新潟大学大学院 自然科学研究科），大川　太基（新潟大学大学院 自然科学研究科），今井　純一（新潟大学大学院 自然科学研究科），寒川　雅之（新潟大学大学院 自然科学研究科），安部　隆（新潟大学大学院 自然科学研究科）

著者名(英語): Yuki Murata (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University), Gang Han (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University), Daiki Ohkawa (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University), Junichi Imai (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University), Masayuki Sohgawa (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University), Takashi Abe (Graduate School of Sience and Technology, Niigata University)

キーワード: 機能性メタル，難加工材，フッ素系ガス，深掘り反応性イオンエッチング　　functional metals，hard-to-etch material，fluoride gas，deep reactive ion etching

要約(英語): This paper describes development of self-heated stage suitable for thermal reactive ion etching (TRIE) of the functional metals. Thermal reactive ion etching was evaluated using both experiments and simulations for etching functional metals. The self-heated stage was designed based on the simulation results. TRIE employs a self-heated stage which is thermally insulated aluminum plate as the etching stage of a regular RIE apparatus. The stage temperature increases rapidly within 10 min and etch rate is not depend on process time. TRIE technique was used to etch various kinds of functional metals: Ti, Mo, Ta, Nb, and Ti alloy (Ti-6Al-4V). It did improve the etching rate of these materials greatly.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.137 No.9 （2017）

本誌掲載ページ: 262-266 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/137/9/137_262/_article/-char/ja/