厚膜フォトレジストを構造体としたバイオマイクロデバイス

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2017/10/01

タイトル(英語): Bio-Microdevices Made of Thick Photoresist

著者名: 鈴木　孝明（群馬大学／JSTさきがけ）

著者名(英語): Takaaki Suzuki (Gunma University/JST, PRESTO)

キーワード: レジストプロセス，フォトリソグラフィ，微細構造，厚膜フォトレジスト，アセンブリフリー加工　　resist process，photolithography，microstructure，thick photoresist，assembly-free manufacturing

要約(英語): Recently, complex microstructures are required for microsystems with expanse of application fields. There is a limit in two-dimensional layer stacking method based on the conventional semiconductor manufacturing process because the processing process has been complicated with the processing microstructures. In this paper, a simple fabrication process using a three-dimensional UV lithography in combination with rotation and inclination of single mask is introduced. In addition, applications for bio-microsystems are shown in order to confirm the validity of the proposed fabrication process.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.137 No.10 （2017） 特集：バイオマイクロシステムの基礎と応用

本誌掲載ページ: 314-317 p

原稿種別: 解説／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/137/10/137_314/_article/-char/ja/