多層膜被覆周期的微細構造を用いた高温用太陽光選択吸収材料
多層膜被覆周期的微細構造を用いた高温用太陽光選択吸収材料
カテゴリ: 論文誌(論文単位)
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門
発行日: 2017/11/01
タイトル(英語): Multilayer Coated Microstructure for Solar Selective Absorbers
著者名: 清水 信(東北大学大学院工学研究科),阿久津 宏樹(東北大学大学院工学研究科),津田 慎一郎(東北大学大学院工学研究科),引地 広介((株)テクノファイン),熊野 勝文(東北大学マイクロシステム融合研究開発センター),湯上 浩雄(東北大学大学院工学研究科)
著者名(英語): Makoto Shimizu (Graduate School of Engineering, Tohoku University), Hiroki Akutsu (Graduate School of Engineering, Tohoku University), Shinichiro Tsuda (Graduate School of Engineering, Tohoku University), Kosuke Hikichi (Technofine Co. Ltd.), Masafumi Kumano (Micro System Integration Center (μSIC), Tohoku University), Hiroo Yugami (Graduate School of Engineering, Tohoku University)
キーワード: 周期的微細構造,太陽光選択吸収材料,熱ふく射,多層膜,原子層堆積法 periodic microstructures,solar selective absorbers,thermal radiation,multilayer,atomic layer deposition
要約(英語): Solar selective absorbers that function at temperatures up to 700℃ and possess shallow honeycomb cylindrical microcavities coated with a metal-dielectric multi-layer are investigated. Even shallow microcavities, absorptance at solar spectrum range is largely increased due to multilayer showing spectrally selective absorption property. To obtain high spectral selective property, design strategy for the multilayer coated microstructure is established. Honeycomb array cylindrical microcavities were fabricated on tungsten substrate and multi-layers consisting of platinum nano-film sandwiched by aluminum oxide layers were created for a uniform coating via atomic layer deposition. Thermal stability of the fabricated sample at 700℃ in vacuum is verified through annealing test for 100 h.
本誌: 電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌) Vol.137 No.11 (2017) 特集:メタマテリアル・プラズモニクス
本誌掲載ページ: 393-399 p
原稿種別: 論文/日本語
電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/137/11/137_393/_article/-char/ja/
受取状況を読み込めませんでした
