TiNを用いたMEMSガスセンサ用マイクロヒータの作製と評価

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2018/06/01

タイトル(英語): Fabrication and Evaluation of TiN Micro-heater for MEMS Gas Sensor

著者名: 伊藤　浩（東京工業高等専門学校），新國　広幸（東京工業高等専門学校）

著者名(英語): Hiroshi Ito (National Ins. of Tech., Tokyo Collage), Hiroyuki Nikkuni (National Ins. of Tech., Tokyo Collage)

キーワード: マイクロヒータ，TiN薄膜，反応性スパッタリング　　micro heater，TiN film，reactive sputtering

要約(英語): Fabrication and evaluation of titanium nitride (TiN) micro heaters have been studied. The TiN thin film was fabricated by the reactive sputter deposition at the gas flow ratio of nitrogen of 100% and the substrate temperature of 500℃. These films have lower electrical resistivity (120μΩcm) and film color as copper-gold. The TiN micro heaters were fabricated by the photolithography process used titanium sacrificial layer. The power dissipation of the TiN micro heater was about 170mW at 400℃. The maximum heating temperature of the TiN micro heater was about 800℃.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.138 No.6 （2018）

本誌掲載ページ: 257-262 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/138/6/138_257/_article/-char/ja/