水素ラジカル処理した銅表面のX線光電子分光法（XPS）による酸化挙動解析

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2019/02/01

タイトル(英語): X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) Analysis of Oxidation Behavior of Hydrogen-radical-treated Cu Surfaces

著者名: 申　盛斌（東京大学），日暮　栄治（東京大学／産業技術総合研究所），古山　洸太（東京大学），山本　道貴（東京大学），須賀　唯知（東京大学）

著者名(英語): Seongbin Shin (The University of Tokyo), Eiji Higurashi (The University of Tokyo/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology), Kohta Furuyama (The University of Tokyo), Michitaka Yamamoto (The University of Tokyo), Tadatomo Suga (The University of Tokyo)

キーワード: 水素ラジカル，酸化，銅，X線光電子分光法　　hydrogen radical，oxidation，copper，X-ray photoelectron spectroscopy

要約(英語): Hydrogen radical and argon fast atom beam (FAB) treatments were used to remove the oxide layer of copper metal. After the treatments, the copper samples were exposed to air atmosphere (～4 h) at room temperature to evaluate the re-oxidation behavior. Compared to argon FAB treatment, hydrogen radical treatment promotes the formation of copper hydroxide [Cu(OH)2] and suppresses the formation of cuprous oxide (Cu2O) formation.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.139 No.2 （2019）

本誌掲載ページ: 38-39 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/139/2/139_38/_article/-char/ja/