レーザ直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの評価

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2020/05/01

タイトル(英語): Evaluation of Thick-Film Photoresist for Grayscale Lithography Utilizing Direct Laser Writing

著者名: 庄子　征希（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター），上瀧　英郎（ハイデルベルグ・インストルメンツ（株）），森山　雅昭（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター），戸津　健太郎（東北大学マイクロシステム融合研究開発センター）

著者名(英語): Masaaki Shoji (Micro System Integration Center, Tohoku University), Hideo Jotaki (Heidelberg Instruments KK), Masaaki Moriyama (Micro System Integration Center, Tohoku University), Kentaro Totsu (Micro System Integration Center, Tohoku University)

キーワード: フォトリソグラフィ，グレイスケール，レーザ描画，厚膜，フォトレジスト，3次元構造体　　photolithography，grayscale，laser writer，thick-film，photoresist，three-dimensional structure

要約(英語): We report evaluation of thick-film positive photoresists for grayscale lithography. The target thickness of the photoresists is 10 to 20 μm, which is one the most popular range for micro structures. The precise direct laser writer, DWL 2000CE was utilized for the grayscale lithography. To evaluate the profile controllability of each photoresist by using dose correction, 256 grayscale slope pattern of 100 μm in length was fabricated on a glass substrate and measured by a confocal microscope. The dose correction realized liner relationship between grayscale value and residual thickness of the photoresists. By using an optimized data of the dose correction for each photoresist, 1024 grayscale microlens array pattern as a three-dimensional micro structure was successfully fabricated on a glass substrate. The fabrication error between the measured profile of one of the microlenses and the designed spherical profile of microlens of 80 μm in diameter and 16 μm in height was less than 0.2 μm within 10 μm from the center.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.140 No.5 （2020） 特集：センサ・マイクロマシン部門総合研究会

本誌掲載ページ: 113-118 p

原稿種別: 論文／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/140/5/140_113/_article/-char/ja/