気相エッチングを用いた空隙形成における透過膜の構造に関する検討

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2021/10/01

タイトル(英語): A Consideration of Semipermeable Membrane Structure for Vacuum Cavity Fabrication Using Vapor Etching

著者名: 三浦　篤志（(株)豊田中央研究所），島岡　敬一（(株)豊田中央研究所），舟山　啓太（(株)豊田中央研究所），田中　宏哉（(株)豊田中央研究所），田所　幸浩（(株)豊田中央研究所）

著者名(英語): Atsushi Miura (Toyota Central R&D Labs., Inc.), Keiichi Shimaoka (Toyota Central R&D Labs., Inc.), Keita Funayama (Toyota Central R&D Labs., Inc.), Hiroya Tanaka (Toyota Central R&D Labs., Inc.), Yukihiro Tadokoro (Toyota Central R&D Labs., Inc.)

キーワード: 気相エッチング，NEMS，シリコン酸化膜犠牲層エッチング，真空封止 vapor etching，Nano ElectroMechanical System (NEMS)，sacrificial silicon oxide etching，vacuum encapsulation

要約(英語): Vapor etching is an important process for a vacuum encapsulation of nano-electromechanical systems. We study a contribution of semipermeable membrane thickness to vacuum cavity fabrication. We reveal that the sufficient thickness ensures fabrication robustness of the vacuum cavity since it prevents compressive stress from destroying the membrane.

本誌: 電気学会論文誌E（センサ・マイクロマシン部門誌） Vol.141 No.10 （2021）

本誌掲載ページ: 364-365 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/141/10/141_364/_article/-char/ja/