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シリコンハードマスクを用いたステンレス鋼のドライエッチング

シリコンハードマスクを用いたステンレス鋼のドライエッチング

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カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2022/10/01

タイトル(英語): Dry Etching of Stainless Steel Using a Silicon Hard Mask

著者名: 韓 剛(豊田工業大学 マイクロメカトロニクス研究室),佐々木 実(豊田工業大学 マイクロメカトロニクス研究室)

著者名(英語): Gang Han (Micro-Nano Mechatronics Lab,Toyota Technological Institute), Minoru Sasaki (Micro-Nano Mechatronics Lab,Toyota Technological Institute)

キーワード: ステンレス鋼,シリコンハードマスク,シリコン貫通穴構造,マイクロテクスチャー_x000D_  stainless steel,Si hard mask,Si through-hole structure,microtexture

要約(英語): At present, there is no suitable mask for the etching process to fabricate micron-level textures on stainless steel. In this paper, we take advantage that Si can be processed as fine structures with a high aspect ratio. We fabricated Si structures with through-holes of 2μm width. This Si structure was applied as a hard mask for dry etching based on Ar+ ions of stainless steel,and the aspect ratio obtained is about 2, the effectiveness of Si hard mask is confirmed.

本誌: 電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌) Vol.142 No.10 (2022)

本誌掲載ページ: 259-265 p

原稿種別: 論文/日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/142/10/142_259/_article/-char/ja/

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