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電子ビームの走査方法によるドーズ量の3次元制御

電子ビームの走査方法によるドーズ量の3次元制御

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カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門

発行日: 2023/02/01

タイトル(英語): Three-Dimensional Control of the Doses by Scanning Method of Electron Beam

著者名: 杉原 達記(東京都立大学/(株)エリオニクス),金子 新(東京都立大学)

著者名(英語): Tatsuki Sugihara (Tokyo Metropolitan University/ELIONIX Inc.), Arata Kaneko (Tokyo Metropolitan University)

キーワード: 電子ビームリソグラフィ,電子ビーム,ナノインプリントモールド,電子線レジスト  electron beam lithography,electron beam,nanoimprint mold,EB resist

要約(英語): Transfer process such as nanoimprinting is effective for fabricating micro/nano structures over a large area. Releasability of nanoimprint molds is improved by the inclination of its side walls. In this study, we focused on the shape of the resist sidewall, which is the template of the mold, and tried to control the inclination of the sidewall by modifying the scanning method of the electron beam in electron beam lithography. By using the proposed method, inclination angles of 86.1~95.8° were successfully fabricated. It was also shown that this result was due to electron scattering and inhomogeneity of the dose amount.

本誌: 電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌) Vol.143 No.2 (2023)

本誌掲載ページ: 26-31 p

原稿種別: 論文/日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/143/2/143_26/_article/-char/ja/

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