フィルタードアークプラズマを用いた基板エッチング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: SA08032

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門　静止器研究会

発行日: 2008/06/23

タイトル(英語): Etching of Substrate by Filtered-Arc-Plasma

著者名: 田上英人(豊橋技術科学大学),益城孝行(豊橋技術科学大学),桶真一郎(豊橋技術科学大学),須田善行(豊橋技術科学大学),滝川浩史(豊橋技術科学大学),神谷雅男(豊橋技術科学大学,伊藤光学),瀧真(オンワード技研),長谷川祐史(オンワード技研),熊谷正夫(神奈川産業技術センター),加納眞(神奈川産業技術センター),石川剛史(日立金属)

著者名(英語): Hideto Tanoue|Takayuki Mashiki|Shinichiro Oke|Yoshiyuki Suda|Hirofumi Takikawa|Masao Kamiya|Makoto Taki|Yushi Hasegawa

キーワード: T字状フィルタードアーク蒸着装置|アルゴンプラズマ|エッチング|ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜|T-shape filtered-arc-deposition(T-FAD)|Ar plasma|etching|diamond-like carbon(DLC) film

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 495 Kバイト