フィルタードアークプラズマビームを用いた水素フリーDLC膜の生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: SP10004

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 開閉保護研究会

発行日: 2010/06/28

タイトル(英語): Hydrogen-free DLC film deposition by filtered cathodic arc plasma

著者名: 奥田 浩史(豊橋技術科学大学),田上 英人(豊橋技術科学大学),神谷 雅男(豊橋技術科学大学,伊藤光学工業),伊藤光学工業 (豊橋技術科学大学),柳田 太一郎(豊橋技術科学大学),内藤 翔太(豊橋技術科学大学),須田 善行(豊橋技術科学大学),滝川 浩史(豊橋技術科学大学),長谷川 祐史(オンワード技研),瀧 真(オンワード技研),辻 信広(オンワード技研),石川 剛史(日立ツール),安井 治之(石川県工業試験場)

著者名(英語): Okuda Hiroshi(Toyohashi University of Technology),Tanoue Hideto(Toyohashi University of Technology),Kamiya Masao(Toyohashi University of Technology,Itoh Optical Industrial Co.,Ltd.),Itoh Optical Industrial Co (Toyohashi University of Technology),Ltd (Toyohashi University of Technology),Yanagita Taichiro(Toyohashi University of Technology),Naito Shota(Toyohashi University of Technology),Suda Yoshiyuki(Toyohashi University of Technology),Takikawa Hirofumi(Toyohashi University of Technology),Hasegawa Yushi(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Taki Makoto(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Tsuji Nobuhiro(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Ishikawa Takeshi(Hitachi Tool Engineering Ltd.),Yasui Haruyuki(Industrial Research Institute of Ishikawa)

キーワード: Ｔ字状フィルタードアーク蒸着|ダイヤモンドライクカーボン|高真空|ラマン分光法|残留ガス分析|T-shape filtered-arc-deposition (T-FAD)|Diamond-like carbon|High vacuum|Raman spectroscopy|Residual gas analysis

要約(日本語): ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜の中でも，最も硬度の高いテトラヘドラルアモルファスカーボン（ta-C）膜が様々な分野で注目されている。ta-C膜は，膜中に含まれる水素が少ないほど高硬度である。本研究では，新規に開発した高真空対応T字状フィルタードアーク蒸着装置を用いて，高真空下でta-Cの成膜を行った。

要約(英語): The hydrogen-free tetrahedral amorphous-carbon (ta-C) is very attractive hard film. It has been pointed out that ta-C film was not prepared when residual gases and water vapor are existed in chamber. We have developed High-vacuum T-shape filtered-arc-depostition(HV T-FAD) has been developed for preparing hydrogen-free DLC. In this paper, demonstrate influence of residual gas and water during the preparation of ta-C films with Residual Gas Analyzer and Raman spectroscope.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 727 Kバイト