真空アークプラズマを用いたDLC:Si:H膜の合成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: SP10005

グループ名: 【B】電力・エネルギー部門 開閉保護研究会

発行日: 2010/06/28

タイトル(英語): Preparation of DLC:Si:H thin film by using vacuum arc plasma

著者名: 田上 英人(豊橋技術科学大学),神谷 雅男(豊橋技術科学大学,伊藤光学工業),伊藤光学工業 (豊橋技術科学大学),内藤 翔太(豊橋技術科学大学),柳田 太一郎(豊橋技術科学大学),奥田 浩史(豊橋技術科学大学),須田 善行(豊橋技術科学大学),滝川 浩史(豊橋技術科学大学),長谷川 祐史(オンワード技研),瀧 真(オンワード技研),辻 信広(オンワード技研),石川 剛史(日立ツール),安井 治之(石川県工業試験場)

著者名(英語): Tanoue Hideto(Toyohashi University of Technology),Kamiya Masao(Toyohashi University of Technology,Itoh Optical Industrial Co.,Ltd),Itoh Optical Industrial Co (Toyohashi University of Technology),Ltd (Toyohashi University of Technology),Naito Shota(Toyohashi University of Technology),Yanagita Taichiro(Toyohashi University of Technology),Okuda Hiroshi(Toyohashi University of Technology),Suda Yoshiyuki(Toyohashi University of Technology),Takikawa Hirofumi(Toyohashi University of Technology),Hasegawa Yushi(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Taki Makoto(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Tsuji Nobuhiro(Onward Ceramic Coating Co.,Ltd.),Ishikawa Takeshi(Hitachi Tool Engineering Ltd.),Yasui Haruyuki(Industrial Research Institute of Ishikawa)

キーワード: Ｔ字状フィルタードアーク蒸着装置（Ｔ－ＦＡＤ）|Ｓｉ含有ＤＬＣ（ＤＬＣ：Ｓｉ：Ｈ）|ラマン分光|Ｓｉ含有量|T-shape filtered-arc-deposition|Si-incorporated DLC|Raman spectroscopy|Si content

要約(日本語): 近年，DLC膜に他元素を含有させて，機能性を向上させる研究が報告されている。中でも，Siを含む膜は，摺動性および耐熱性に優れることが明らかになっている。本研究では，独自開発のT字状フィルタードアーク蒸着装置（T-FAD）を用いて，Siを含有させたDLC:Si:H膜の作製を行うとともに，膜特性の評価を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 958 Kバイト