A new robust control for the RF impedance matcher for plasma processing

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: SPC08128

グループ名: 【D】産業応用部門　半導体電力変換研究会

発行日: 2008/09/26

タイトル(英語): A new robust control for the RF impedance matcher for plasma processing

著者名: Yuuki Hirose(Yokohama National University),Atsuo Kawamura(Yokohama National University),Atsushi Takayanagi(Kyosan),Koichi Takada(Kyosan)

著者名(英語): Yuuki Hirose(Yokohama National University),Atsuo Kawamura(Yokohama National University),Atsushi Takayanagi(Kyosan),Koichi Takada(Kyosan)

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 414 Kバイト