誘電体素子分離技術の変遷について

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: SPC08146

グループ名: 【D】産業応用部門　半導体電力変換研究会

発行日: 2008/10/24

タイトル(英語): A Historical Study of Dielectric Isolation Technology

著者名: 山内 経則(西日本工業大学)

著者名(英語): Tunenori Yamauchi(Nishinippon Institute of Technology)

キーワード: 誘電体|素子分離|DI|SOI|高耐圧IC|パワーIC|Dielectric|Isolation|DI|SOI|High Voltage IC|Power IC

要約(英語): The dielectric isolation technologies have many advantages for high voltage ICs. This paper is presented a historical study of the dielectric isolation technology during about 30years. In 1990s, many important technologies are provided, such as dry etchin

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 948 Kバイト