繰り返し型生産ラインにおける多目的スケジューリングの最適化手法

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ST13008

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 システム研究会

発行日: 2013/02/22

タイトル(英語): A local guided optimization algorithm for multi-objective Reentrant production line Scheduling problems

著者名: 衛 (早稲田大学),高 嵩(早稲田大学),藤村 茂(早稲田大学)

著者名(英語): Wei Xin(Waseda University),Gao Song(Waseda University),Fujimura Shigeru(Waseda University)

キーワード: メイクスパン|遺伝的アルゴリズム|多目的最適化|リエントラント生産ライン|ペナルティコスト|Makespan|Genetic algorithm|Multi-objective optimization|Reentrant production line|Penalty Cost

要約(日本語): 本論文では、リエントラント生産ラインのスケジューリング問題のための多目的最適化アルゴリズムを提案する。半導体製品及び液晶ディスプレイ（LCD）の製造工程はリエントラント生産ラインで行い、その中で、同一の生産設備が複数回繰り返使用される。リエント生産ラインの多目的スケジューリング問題のため、確率モデルに基づいて、ローカルガイド最適化というアルゴリズム開発した。実験の結果により、提案した手法の効率を実証した。

要約(英語): This paper presents a multi-objective optimization algorithm for solving the scheduling problem in reentrant production line. Semiconductor device and liquid crystal display (LCD) fabrication process on reentrant production line, in which a similar sequence of processing step is repeated several times. Based on the probability models, a local guided optimization algorithm is proposed for this problem. The experimental results have demonstrated the efficiency of proposed algorithm.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,140 Kバイト