放電下流域での高分子材料の表面処理における極性基の導入速度と電子温度の関係

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-106

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Introduction of polar group and electron temperature on surface processing of polymer in downstream region of discharge

著者名: 谷澤昭尋 (武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学),堺 孝夫(武蔵工業大学),松下 祥祈(武蔵工業大学)

著者名(英語): Akihiro Yazawa(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology),Takao Sakai(Musashi Institute of Technology),Yoshiki Matushita(Musashi Institute of Technology)

キーワード: ホローカソード放電|極性基|励起粒子|アフタグロー|プローブ

要約(日本語): 著者らは低気圧放電による高分子材料の表面処理において、高分子材料表面への極性基導入の要因として励起粒子の可能性を示してきた。しかし、その関係はまだ明らかになっていない。それを調べる手段の１つとしてアフタグロー領域に着目し、これまで、その領域におけるNO-γbandの発光強度と高分子材料表面への極性基の導入速度の対応を確認した。そこで今回は、その領域での電子温度の変化をプローブ法を用い測定し、極性基の導入速度と電子温度の位置変化による比較を行った。その結果、極性基の導入速度と電子温度との対応を確認した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 57 Kバイト