反応性シールド型真空アーク蒸着法で生成したZnO膜の成膜圧力依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-124

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Process Pressure Dependence of ZnO Film Prepared Using Shielded Reactive Cathodic Arc

著者名: 木村 圭作(豊橋技術科学大学),宮野 竜一(豊橋技術科学大学),滝川 浩史(豊橋技術科学大学),榊原 建樹(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Keisaku Kimura(Toyohashi University of Technology),Ryuichi Miyano(Toyohashi University of Technology),Hirofumi Takikawa(Toyohashi University of Technology),Tateki Sakakibara(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 反応性蒸着|シールド型真空アーク|酸化亜鉛膜|膜質|成膜圧力依存性

要約(日本語): 　酸化亜鉛（ZnO）膜を反応性シールド型真空アーク蒸着法を用いてガラス基板上に生成し，それらの膜の特性について調べた。真空アーク蒸着法ではドロップレットと呼ばれる金属溶融微粒子が陰極から放出され，それが生成膜に付着，堆積することで膜質の低下を招いていた。そこで，ドロップレットの付着・堆積を抑制するために陰極と基板との間にシールド板と呼ぶ１枚の板を配置することでドロップレットの膜への付着・堆積を抑制できる。シールド型を用いないで ZnO 膜を生成したところ，飴色をした膜が得られた。一方，シールド型

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 61 Kバイト