放電脱硝におけるラジカル密度の低圧力場での測定と放電･化学動力学計算

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-152

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Measurement and Discharge-Chemical Kinetics Calculation of RadicalsDensity at Low-Pressure Discharge Denitrification

著者名: 萩原 勝幸(豊橋技術科学大学),中浦 裕之(豊橋技術科学大学),田中 秀和(豊橋技術科学大学),伊藤衡平 (豊橋技術科学大学),恩田 和夫(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Katsuyuki Hagiwara(Toyohashi University of Technology),Hiroyuki Nakaura(Toyohashi University of Technology),Hidekazu Tanaka(Toyohashi University of Technology),Kohei Ito(Toyohashi University of Technology),Kazuo Onda(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 出現質量分析|ラジカル密度|放電脱硝|放電･化学動力学計算

要約(日本語): 放電脱硝過程では放電電子が燃焼ガスと衝突し，生成するNやO，OHラジカルが窒素酸化物と反応し，酸化･還元するので，生成ラジカルが脱硝過程を支配すると言われている。本研究では四重極質量分析計を用い，出現質量分析法でNやO，OHラジカル密度を測定し，NO濃度も測ると共に，ラジカル計測部の電界と電子密度，電子温度をラングミュアプローブ法で測定した。電界やガス組成などを実験条件に合わせ，放電･化学動力学計算によりNやO，OHラジカル，NO，電子密度変化などを求め，実測電子密度が解析電子密度と合う時のラジカル密度や

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 268 Kバイト