平板型表面波プラズマ装置における電子密度空間分布に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-234

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Investigation of Electron Density Distribution on Planar Type Surface Wave Plasma Processing Device

著者名: 鳥羽 孝幸(東京大学),小池 謙一(東京大学),板垣敏文 (東京大学),桂井誠 (東京大学)

著者名(英語): Takayuki Toba(Tokyo University),Kenichi Koike(Tokyo University),Qing Chen(Tokyo University),Toshifumi Itagaki(Tokyo University),Makoto Katsurai(Tokyo University)

キーワード: 表面波プラズマ|マイクロ波|プロセスプラズマ

要約(日本語): 次世代プロセスプラズマ装置として開発された、平板型表面波プロセスプラズマ装置(SWP装置:Surface Wave Plasma)は、外部より磁界を印加することなく、電源の周波数(2.45GHz)で決定されるカットオフ密度(7.4×10¹⁰[cm^-3])を超える過密度のプラズマを広範囲に渡って高均一に生成することが可能であるという特徴から、将来性が注目されている。しかし、この装置では、過密度なプラズマがどのように効率よく生成されるかなど、未解明な部分が多く残されている。そこで今回は、プラズマ内部における電子密度空間分布の特性について実験・考察を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 67 Kバイト