H2,N2を混入したパルス変調Ar誘導熱プラズマの過渡応答特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-251

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Transient Response of a Pulse Modulated Ar Induction Thermal Plasma with an Injection of H₂,N₂ Gas

著者名: 片山 正幸(金沢大学),橋本 吉史(金沢大学),田中 康規(金沢大学),作田 忠裕(金沢大学)

著者名(英語): Masayuki Katayama(Kanazawa University),yoshifumi Hashimoto(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Tadahiro Sakuta(Kanazawa University)

キーワード: 誘導熱プラズマ|パルス変調|シマ?カレントレベル|Arスペクトル|過渡応答特性時間

要約(日本語): 筆者らは，高周波誘導熱プラズマを維持する外部印加磁界をミリ秒オーダーの周期でパルス的にAM変調させることにより，過渡状態を繰り返す特異な「パルス変調誘導熱プラズマ」の発生に成功している。この方法によれば，クリーンなプラズマの過渡諸特性を基礎実験的に検討しうる可能性がある。また，このような特異なプラズマ場を利用して，通常の定常平衡状態下では見られない新物質創製の可能性も考えられる。本報告では，Ar,Ar-H₂,Ar-N₂のガスを用いてパルス変調誘導熱プラズマを点弧し，分光学的手法により各ガスプラズマの過渡応答特性を求め，比較検討を行った。

原稿種別: 日本語

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