反応速度・拡散・対流を考慮した大気圧N2誘導熱プラズマの二次元定常粒子密度分布解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-252

グループ名: 【全国大会】平成12年電気学会全国大会論文集

発行日: 2000/03/21

タイトル(英語): Numerical Simulation of Particle Density Distribution in N₂ Inductively Coupled Plasma at Atmospheric Pressure using Reaction Kinetics

著者名: 田中 康規(金沢大学),作田 忠裕(金沢大学)

著者名(英語): Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Tadahiro Sakuta(Kanazawa University)

キーワード: 誘導熱プラズマ|反応速度|拡散|対流|大気圧

要約(日本語): 　大気圧付近で発生させた誘導熱プラズマICPは10 000 K程度の高温で反応論的に活性である，電極からの材料混入がなく純粋なプラズマが発生できる，などの特徴から様々なプラズマプロセシング分野で応用されている。これまでこのようなICPの数値解析には局所熱平衡(LTE)モデルが用いられてきた。しかし，N₂の様な分子解離・再結合反応をともなう場合その反応速度はmsオーダであり，非定常はもちろん定常状態でも，粒子密度分布に反応速度・対流および拡散の影響を考慮する必要がある。そこで本報告では，これらを考慮した二次元数値解析モデルを開発し，大気圧N2 ICP内の粒子密度分布を求めた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 138 Kバイト